光刻机自主研发有望实现新突破 相关企业值得关注（附股）

　　据清华大学官网消息，2 月 25 日，清华大学工程物理系教授唐传祥研究组联合国外科研人员发布了一项重大科研成果。该成果基于SSMB（Steady-state microbunching，一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”）原理，能获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射，波长可覆盖从太赫兹到极紫外（EUV）波段，有望为光子科学研究提供广阔的新机遇。

　　点评：大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。随着芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源功率的要求将不断提升，达到千瓦量级。基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。

　　奥普光电（002338）产品可用于光刻机的光学系统中，大股东长春光机所正在研发更高水平的光刻机曝光系统。

　　苏大维格（300331）自主研发制造的激光直写光刻设备。

　　张江高科（600895）参股公司上海微电子是国内光刻机研发制造领先企业。