致晶科技申请一体化量子点增强背光膜专利，实现工艺简化、膜材减薄及成本降低

2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，致晶科技（北京）有限公司申请一项名为“一种一体化量子点增强背光膜及其制备方法和应用”的专利，公开号CN 119126278 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本申请公开了一种一体化量子点增强背光膜及其制备方法和应用，属于显示器件技术领域。包括量子点扩散膜；所述量子点扩散膜包括量子点胶层、两层对称贴合设置在量子点胶层两侧的复合功能层；所述复合功能层朝向量子点胶层的一面为阻隔层，另一面为挤出PET扩散膜层。利用尺寸更薄的挤出型PET扩散膜取代传统的挤出型扩散板，并利用沉积技术在挤出PET扩散膜表面直接沉积阻隔层，取代行业现行的扩散膜贴合薄型化阻隔膜工艺，同时采用使用UV光固化技术涂布量子点功能层，实现工艺简化、膜材减薄以及成本降低，还可以与其他的扩散膜、复合增光膜等进行卷对卷贴合，实现仅在背光中使用一张复合膜材即可满足多功能。