武汉亿思源光电取得优化光模块EMC性能结构专利，优化EMC/EMI

2024年12月28日消息，国家知识产权局信息显示，武汉亿思源光电股份有限公司取得一项名为“一种优化光模块EMC性能的结构”的专利，授权公告号 CN 222213017 U，申请日期为 2024 年 2 月。

专利摘要显示，本实用新型涉及光模块装置技术领域，具体涉及一种优化光模块 EMC 性能的结构，包括盖体，盖体由上盖与下盖拼接形成密封结构，下盖为盒型体，内部放置有各种元器件，对应光口的柱形器件铺设于盖体内，并沿着盖体的长边设置，柱形器件的柱体上设置有环形挡圈，在下盖内部设计有固定柱形器件的固定件，固定件内开设有卡槽，环形挡圈嵌设于卡槽内形成初步固定；本设计采用增加阻挡金属弹片和吸波材料在器件光口位置，使其和器件相配合，同时通过底座和上盖的配合增加屏蔽的密闭性吸波材料可以对干扰信号进行进一步的吸收从而达到优化EMC/EMI的效果。