吉利电子新材料申请半导体用氢氟酸制备方法及装置专利，提高更换效率的同时降低更换风险

国家知识产权局信息显示，西安吉利电子新材料股份有限公司、陕西吉利科技有限公司申请一项名为“一种半导体用氢氟酸的制备方法及装置”的专利，公开号CN 120573652 A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本发明涉及氢氟酸制备技术领域，具体公开了一种半导体用氢氟酸的制备方法及装置，包括反应釜和吸收塔，反应釜的顶部固定连通有连接管一，吸收塔的底部固定连通有连接管二；将萤石研磨成粉，增大与硫酸的接触面积并通过搅拌实现均匀混合，以便于反应的充分进行生成氟化氢气，氟化氢气经过装有无水氯化钙的干燥管，无水氯化钙会与水结合形成结晶水合物，与硫酸雾的反应生成硫酸钙和氯化氢，使得干燥管的重量增加并在重力作用下转动实现干燥管的更换，提高更换效率的同时，降低更换风险，最后通过连接管二使得氟化氢气从吸附态底部螺旋向上，并充分地与喷头形成的环形水幕接触，充分被水吸收，最后经过控温蒸馏，提高氢氟酸溶液的质量。

天眼查资料显示，西安吉利电子新材料股份有限公司，成立于1992年，位于西安市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本6415万人民币。通过天眼查大数据分析，西安吉利电子新材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目55次，财产线索方面有商标信息208条，专利信息82条，此外企业还拥有行政许可28个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。