三星拟最新引进High-NA EUV光刻机 投资约1.1万亿韩元

观点网讯：10月16日消息，韩国三星电子宣布将投资1.1万亿韩元（约8.3亿美元）引进两台最新High-NA双级极紫外（EUV）光刻机，将用于半导体产品量产。首台设备预计年内到位，第二台将于2026年上半年安装。

另悉，三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的High-NA EUV设备。

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