立芯软件申请检测设计版图中掩膜冲突的方法专利，提高检测速度和效率

国家知识产权局信息显示，上海立芯软件科技有限公司申请一项名为“检测设计版图中掩膜冲突的方法”的专利，公开号CN120848121A，申请日期为2025年08月。

专利摘要显示，本发明提供一种检测设计版图中掩膜冲突的方法，涉及计算机光刻技术领域，包括：步骤S1：加载待检测电路设计的完整版图数据，版图数据包含版图中所有通孔的位置信息及各通孔之间的间距信息；步骤S2：将完整版图划分为多个检测区域；步骤S3：针对每个检测区域，提取该区域内的所有通孔作为节点并构建对应的拓扑结构图；步骤S4：遍历拓扑结构图中的所有节点，筛选出邻居节点数量不小于设定值的节点并归入待判断群组，根据待检测的掩膜层数对待判断群组执行对应的冲突检测；步骤S5：基于冲突检测结果标记违例节点，结合违例节点创建检测区域对应的掩膜冲突违例区域；重复步骤S3‑S5，直至完成所有检测区域的掩膜冲突检测。

天眼查资料显示，上海立芯软件科技有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2541.257万人民币。通过天眼查大数据分析，上海立芯软件科技有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息55条，此外企业还拥有行政许可4个。

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