华泰诺安申请用于离子迁移谱设备的新型TP离子门及制备方法专利，降低TP离子门制造成本

国家知识产权局信息显示，北京华泰诺安技术股份有限公司申请一项名为“一种用于离子迁移谱设备的新型TP离子门及制备方法”的专利，公开号CN120878533A，申请日期为2025年07月。

专利摘要显示，本发明涉及离子迁移技术领域，特别涉及一种用于离子迁移谱设备的新型TP离子门及制备方法。本发明的用于离子迁移谱设备的新型TP离子门包括水平设置且绝缘的结构环、屏蔽栅和控制栅，所述屏蔽栅设置于所述结构环内上部，所述控制栅设置于所述结构环内下部，所述屏蔽栅具有多段位于同一水平面且相互平行间隔分布的第一金属线，所述控制栅具有多段位于同一水平面且相互平行间隔分布的第二金属线，所述第一金属线和第二金属线相互平行。

天眼查资料显示，北京华泰诺安技术股份有限公司，成立于2012年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1332.253909万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华泰诺安技术股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息64条，此外企业还拥有行政许可5个。

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