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吉姆西半导体申请晶圆磨削旋转顶升吸附平台专利,可对加工后的晶圆进行先泄压后顶出的顶升工作
市场资讯 2025-11-04 08:11:09
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国家知识产权局信息显示,吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司申请一项名为“一种晶圆磨削旋转顶升吸附平台”的专利,公开号CN 120862561 A,申请日期为2025年08月。
专利摘要显示,本发明属于晶圆加工领域,具体的说是一种晶圆磨削旋转顶升吸附平台,包括外壳,所述外壳上设有吸附组件、旋转组件、顶升组件;旋转组件包括第一电机,所述第一电机固定安装在外壳底部;所述外壳内部转动连接有第一齿轮和第二齿轮;所述第一齿轮和第二齿轮为啮合关系;所述第一齿轮和第一电机输出端为固接关系;所述第二齿轮顶部通过多个杆件固接有吸附盘;所述外壳的外壁开设有多个透气孔,用于保持外壳与外界连通;顶升组件包括气缸,所述气缸固定安装在外壳底部;所述气缸输出端固接有空心杆;通过设置顶升组件,可对加工后的晶圆进行先泄压后顶出的顶升工作,使得晶圆可稳定从吸附盘上被释放。
天眼查资料显示,吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司,成立于2014年,位于无锡市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本36715.6957万人民币。通过天眼查大数据分析,吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司共对外投资了33家企业,参与招投标项目215次,财产线索方面有商标信息37条,专利信息235条,此外企业还拥有行政许可44个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。