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晶亦精微取得基板清洗用排气装置及基板清洗系统专利,解决现有技术中基板清洗产生清洗液混合于空气后无法针对不同清洗液进行相应处理造成环境污染的问题
市场资讯 2025-11-04 18:40:49
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国家知识产权局信息显示,北京晶亦精微科技股份有限公司取得一项名为“基板清洗用排气装置及基板清洗系统”的专利,授权公告号CN 223505861 U,申请日期为2024年08月。
专利摘要显示,本实用新型提供了一种基板清洗用排气装置及基板清洗系统,属于基板清洗装置技术领域,包括排气组件、动力器和开启组件,排气组件具有多个相互独立的排气通道,所述排气通道的进气端连通于清洗罩,出气端连通于废气处理装置;动力器连接于所述排气组件,用于将所述清洗罩内的气体沿所述排气通道输送至相应的废气处理装置;开关组件连接于所述排气通道,用于控制所述排气通道导通或封闭。本实用新型提供的基板清洗用排气装置及基板清洗系统,旨在解决现有技术中基板清洗产生的清洗液混合于空气后,无法针对不同清洗液进行相应处理,造成环境污染的问题。
天眼查资料显示,北京晶亦精微科技股份有限公司,成立于2019年,位于北京市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本16646.135万人民币。通过天眼查大数据分析,北京晶亦精微科技股份有限公司参与招投标项目51次,财产线索方面有商标信息15条,专利信息415条,此外企业还拥有行政许可8个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。