东微电子取得靶材刻蚀跑道深度滑动测量规专利，测量速度和测量精度有明显提高

国家知识产权局信息显示，河南东微电子材料有限公司取得一项名为“一种靶材刻蚀跑道深度的滑动测量规”的专利，授权公告号 CN 223512729 U，申请日期为 2024 年 12 月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种靶材刻蚀跑道深度的滑动测量规，属于半导体技术领域，包括底座；定位盘，其用于对靶材定位，所述定位盘安装在底座上表面；两根支架，两根支架分别设置在定位盘的两侧，定义两根支架的排布方向为左右方向；测量结构，其用于测量靶材刻蚀跑道的深度，测量结构位于定位盘上方，所述测量结构包括与所述支架固定连接的承重板，承重板上设有可沿左右方向滑动的平面度测量仪；本实用新型通过在定位盘上方设置可左右滑动的平面度测量仪，测量时，定位盘对靶材进行定位和固定，通过滑动平面度测量仪，即可快速对靶材刻蚀跑道的深度进行测量，其制造成本相对更低，且测量速度和测量精度都有明显提高。

天眼查资料显示，河南东微电子材料有限公司，成立于2018年，位于郑州市，是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本15200.18426万人民币。通过天眼查大数据分析，河南东微电子材料有限公司共对外投资了20家企业，参与招投标项目21次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息126条，此外企业还拥有行政许可8个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。