湖南德智新材料申请基于碳纳米结构过渡层的TaC复合涂层工艺及其产品专利，增加涂层的致密性

国家知识产权局信息显示，湖南德智新材料股份有限公司申请一项名为“一种基于碳纳米结构过渡层的TaC复合涂层工艺及其产品”的专利，公开号CN120945342A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体材料制备的技术领域，提供了一种基于碳纳米结构过渡层的TaC复合涂层工艺及其产品。该方法包括以下步骤：a）基材表面预处理形成沟槽，b）通入碳源气体、在金属盐催化剂的作用下进行第一化学气相沉积生长成碳纳米颗粒，对步骤a）预处理后的基材进行沉积得到过渡层沉积基材，c）将钽源气化后和碳源气体、反应气体以及载气混合，进行第二化学气相沉积，在所述过渡层沉积基材内部填充形成细晶颗粒层，之后在所述过渡层沉积基材表面继续沉积形成粗晶颗粒层，最终得到TaC复合涂层。该方法能够增加涂层的致密性，并增强涂层和基材的结合强度，提升TaC复合涂层的性能，提高TaC复合涂层的使用寿命和可靠性。

天眼查资料显示，湖南德智新材料股份有限公司，成立于2017年，位于株洲市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2437.2476万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南德智新材料股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息96条，此外企业还拥有行政许可33个。

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