至格科技取得用于曝光系统的抗干扰机构专利，避免曝光光束干涉形成的干涉条纹出现飘动的情况

国家知识产权局信息显示，北京至格科技有限公司取得一项名为“一种用于曝光系统的抗干扰机构”的专利，授权公告号CN223598106U，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本实用新型公开一种用于曝光系统的抗干扰机构，包括支撑件和遮挡件，遮挡件包括第一遮挡件和第二遮挡件。支撑件围绕放置曝光系统的光学平台设置，支撑件的顶面设置第一遮挡件，支撑件的侧面设置第二遮挡件。通过在放置曝光系统的光学平台设置支撑件，在支撑件的顶面和侧面分别设置遮挡件，阻挡操作间内的空气气流对曝光系统产生的曝光光束造成干扰，从而避免曝光光束干涉形成的干涉条纹出现飘动的情况。

天眼查资料显示，北京至格科技有限公司，成立于2019年，位于北京市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本627.9922万人民币。通过天眼查大数据分析，北京至格科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息81条，此外企业还拥有行政许可3个。

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