开悦半导体取得一种环境控制等级分区的涂胶显影机专利，精密控制区域与光刻胶区域间互不影响

国家知识产权局信息显示，合肥开悦半导体科技有限公司取得一项名为“一种环境控制等级分区的涂胶显影机”的专利，授权公告号CN 223624508 U，申请日期为2025年2月。专利摘要显示，本实用新型涉及涂胶显影机技术领域，公开了一种环境控制等级分区的涂胶显影机，包括晶圆盒站、多功能模块、热板单元、工艺机械臂一与工艺机械臂二、旋转单元以及接口站，所述旋转单元与热板单元之间布置有中间单元，所述热板单元、工艺机械臂二与所述接口站连接组成光刻胶区域，所述旋转单元相对于工艺机械臂一对称布置作为精密区域，所述晶圆盒站、多功能模块、旋转单元的工艺机械臂一作为一般清洁区。本实用新型，通过涂胶显影设备的架构进行重新构思，完成涂胶显影设备的环境进行分区控制，精密控制区域与光刻胶区域间互不影响；通过使旋转单元与热板单元两环境区域相互区隔，旋转单元不会对热板单元造成影响。

天眼查资料显示，合肥开悦半导体科技有限公司，成立于2016年，位于合肥市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3882.17296万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥开悦半导体科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目29次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息85条，此外企业还拥有行政许可9个。

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