新锐光掩模申请棋盘光栅光掩模制造精度优化方法专利，极大程度提高了终端光学衍射效率及均匀性

国家知识产权局信息显示，广州新锐光掩模科技有限公司申请一项名为“一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法”的专利，公开号CN121209198A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明涉及一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法，包括：根据产品精度要求的高低选择不同的光刻工艺；根据上述选择的不同的光刻工艺对基材进行处理，设定基材上铬层的厚度，同时铬层具有高反射性，在根据不同的光刻工艺在铬层上涂覆不同的光阻层；分别针对不同的光刻工艺，对光掩模版图进行调整设计；根据不同应用场景实现不同位置REG精度补偿,匹配不同的光刻工艺导致的位置精度变化。本发明涉及一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法，消除棋盘光栅Dark位置断联影响并优化连接位置精度、改善CD和位置精度、改善圆角半径、局部客户工艺补偿等，极大程度提高了终端光学衍射效率及均匀性，改善光学性能，提高了光掩模的质量和可靠性。

天眼查资料显示，广州新锐光掩模科技有限公司，成立于2021年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本284380万人民币。通过天眼查大数据分析，广州新锐光掩模科技有限公司参与招投标项目346次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息43条，此外企业还拥有行政许可63个。

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