奕斯伟材料申请抛光垫清洗装置及抛光设备专利，能够减小抛光垫不同区域的湿润度差异

国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“抛光垫清洗装置及抛光设备”的专利，公开号CN121267779A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本公开涉及抛光垫清洗装置及抛光设备。在一方面中，提供了一种抛光垫清洗装置，该抛光垫清洗装置包括：清洗部件，包括多个喷嘴，并且多个喷嘴的扩散角互不相同；控制器，与清洗部件通信连接，以控制多个喷嘴一一对应地向抛光垫从中心至边缘排布的多个区域喷射清洗液，其中，区域的厚度越大，所对应的喷嘴的扩散角越小。由此，能够减小抛光垫不同区域的湿润度差异并由此改善晶圆表面的平坦度稳定性。

天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本350000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目3次，专利信息1489条，此外企业还拥有行政许可24个。

西安奕斯伟硅片技术有限公司，成立于2018年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本660000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟硅片技术有限公司参与招投标项目384次，专利信息1033条，此外企业还拥有行政许可53个。

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