德智新材申请高电阻碳化硅涂层制备方法专利，能够在不改变涂层化学组成和结构特性的前提下提高产品电阻值

国家知识产权局信息显示，湖南德智新材料股份有限公司申请一项名为“一种高电阻碳化硅涂层的制备方法及应用”的专利，公开号CN121519025A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明涉及高电阻材料技术领域，具体涉及一种高电阻碳化硅涂层的制备方法及应用，包括对基材进行预处理；采用CVD法在基材的表面沉积待处理的碳化硅涂层；采用喷砂工艺处理待处理的碳化硅涂层的表面以去除待处理的碳化硅涂层表面由金属离子形成的导电层；酸洗并干燥进行过喷砂工艺处理的待处理的碳化硅涂层，去除残留喷砂磨料，得到处理后的碳化硅涂层。本发明的高电阻碳化硅涂层的制备方法，能够在不改变涂层化学组成和结构特性的前提下提高产品电阻值，同时解决上述表面颗粒、异色等缺点，使产品表面光滑平整，提升涂层性能。

天眼查资料显示，湖南德智新材料股份有限公司，成立于2017年，位于株洲市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2437.2476万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南德智新材料股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息112条，此外企业还拥有行政许可33个。

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