盛吉盛申请一种用于PVD设备腔室的穹顶挡板及其使用方法专利，有效削弱气流冲击

国家知识产权局信息显示，盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司申请一项名为“一种用于PVD设备腔室的穹顶挡板及其使用方法”的专利，公开号CN121610737A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于PVD设备腔室的穹顶挡板及其使用方法，其属于半导体设备技术领域，所述穹顶挡板包括设置在腔室内的气体分配盘，气体分配盘位于腔室的进气口下方，气体分配盘上均匀设有若干气孔，气体分配盘下方设有若干固定支架，固定支架一端与腔室的内壁固定连接，另一端与气体分配盘的底部固定连接。本发明通过在进气口下方设置气体分配盘，并在气体分配盘上开设若干气孔，从而在打开进气口后，使气流先被气体分配盘整流再进入工艺区，能够有效削弱气流冲击，消除局部过刻，固定支架两端分别与腔壁和气体分配盘刚性连接，形成支撑，使气体分配盘不与晶圆接触，避免划伤或颗粒污染，同时抑制盘体抖动，保证气流方向恒定，提升刻蚀重复性。

天眼查资料显示，盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司，成立于2018年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12463.7965万美元。通过天眼查大数据分析，盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目50次，财产线索方面有商标信息58条，专利信息251条，此外企业还拥有行政许可13个。

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