微睿科技申请下电极及其再生工艺专利，下电极提高了电性能

国家知识产权局信息显示，合肥微睿科技股份有限公司申请一项名为“下电极及其再生工艺与应用”的专利，公开号CN121641801A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明属于LCD和OLED显示面板领域，涉及下电极及其再生工艺与应用。针对现有技术干法刻蚀工艺及物理气象沉积中再生的下电极，塑封液渗透不彻底，导致电性异常的技术问题。本申请提供了下电极，包括下而上依次设置的金属基材、缓冲层、下部层、电极层和上部层，缓冲层、下部层、电极层和上部层的总厚度为960 μm~1400 μm，下电极经着色剂处理后，其截面不被着色。下电极提高了电性能。本申请还提供了下电极的再生工艺，包括以下步骤：对金属基材喷砂；缓冲层熔射，下部层熔射；对下部层进行塑封、研磨、喷砂；电极层熔射，上部层熔射，对金属基材侧面熔射，对上部层和侧面研磨、塑封；再对塑封后的上部层喷砂。本申请还提供了下电极的应用。

天眼查资料显示，合肥微睿科技股份有限公司，成立于2016年，位于合肥市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本11150.9303万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥微睿科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目11次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息95条，此外企业还拥有行政许可19个。

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