东方晶源申请设计版图的处理方法、产品及设备专利，使其适配14nm及以下先进工艺节点的生产需求

国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“设计版图的处理方法、产品及设备”的专利，公开号CN121659886A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本发明提供了一种设计版图的处理方法、产品及设备。其中上述方法包括：获取待拆分的设计版图；对设计版图进行冲突分析得到冲突标记层，冲突标记层用于表征不符合预设工艺规则的冲突区域以及拆分归属；将设计版图和冲突标记层输入至预先训练的拆分模型，并通过拆分模型将设计版图拆分为设定数量的子版图，子版图的密度低于设计版图。通过此方法可以将原始高密度设计版图拆分为多个低密度子版图，使其适配14nm及以下先进工艺节点的生产需求，突破193nm浸没式光刻的分辨率极限，同时可以摆脱对第三方拆分工具的依赖，解决不同工具平台无法适配的问题。

天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目49次，财产线索方面有商标信息156条，专利信息410条，此外企业还拥有行政许可18个。

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