东方晶源申请掩模版图修复方法专利，能够更高效地修复掩模版图中的缺陷

国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司申请一项名为“掩模版图修复方法、装置及产品”的专利，公开号CN121763643A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本申请公开了一种掩模版图修复方法、装置及产品，涉及半导体集成电路技术领域。掩模版图修复方法包括：采用光刻模型对掩模版图进行光刻模拟，获得掩模版图对应的预测图形；对预测图形进行光刻规则检查，获取预测图形中违反光刻规则的缺陷点的位置及其类型；根据缺陷点的位置，确定缺陷点在掩模版图上的待修复区域；识别待修复区域中的图形边，并采用光刻模型计算图形边的位置变化对预测图形与设计版图之间几何偏差的影响程度；根据缺陷点的类型和影响程度确定图形边的调整参数；按照调整参数对图形边进行调整，得到修复后的掩模版图。本申请能够更高效地修复掩模版图中的缺陷。

天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（上海）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息50条，此外企业还拥有行政许可1个。

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