奕斯伟材料申请改善晶圆平坦度的方法专利，使晶圆在经过最终抛光处理后的形貌斜率满足设定的平坦度收敛条件

国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安欣芯材料科技有限公司申请一项名为“改善晶圆平坦度的方法、装置、设备、系统及存储介质”的专利，公开号CN121756221A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本公开提供了一种改善晶圆平坦度的方法、装置、设备、系统及存储介质，该方法可以包括：获取经双面抛光后的晶圆的厚度分布数据；基于厚度分布数据，确定第一形貌斜率；基于当前工具状态参数，确定最终抛光设备的第二形貌斜率；根据第一形貌斜率与第二形貌斜率的匹配关系，确定最终抛光设备的工艺控制条件，以使晶圆在经过最终抛光处理后的形貌斜率满足设定的平坦度收敛条件。

天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本403780万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目13次，专利信息1535条，此外企业还拥有行政许可24个。

西安欣芯材料科技有限公司，成立于2022年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本504400万人民币。通过天眼查大数据分析，西安欣芯材料科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目169次，专利信息168条，此外企业还拥有行政许可25个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。