凌久微电子申请基于静态绘制序列重构的渲染优化方法专利，大幅提升渲染效率

国家知识产权局信息显示，武汉凌久微电子有限公司申请一项名为“一种基于静态绘制序列重构的渲染优化方法、设备与介质”的专利，公开号CN121785785A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于静态绘制序列重构的渲染优化方法、设备与介质，包括以下步骤：1）获取待渲染的静态绘制序列；2）解析静态绘制序列，提取每个绘制图元的属性信息；所述属性信息包括：图元类型、着色器类型、纹理类型和渲染模式；3）对静态绘制序列中的绘制图元进行分类，基于分类结果构建新的渲染执行队列；4）按照新的渲染执行队列，通过显示列表自适应的方式执行渲染。本发明设计了一种基于静态绘制序列重构的渲染优化方法，将静态绘制目标进行分类解析，重新生成新的高效绘制队列，队列中同一区段的绘制图元具备完全一致的渲染状态，GPU可连续执行该区段所有绘制操作，显著降低GPU状态切换成本，大幅提升渲染效率。

天眼查资料显示，武汉凌久微电子有限公司，成立于2021年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本16544.959958万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉凌久微电子有限公司参与招投标项目155次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息186条，此外企业还拥有行政许可3个。

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