奥创光子申请用于双晶体再生放大结构的凹面全反位置优化方法专利，检测光学谐振腔的稳定性和输出激光的光束质量

国家知识产权局信息显示，杭州奥创光子技术有限公司申请一项名为“用于双晶体再生放大结构的凹面全反位置优化方法”的专利，公开号CN121813093A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本申请公开一种用于双晶体再生放大结构的凹面全反位置优化方法。待优化的双晶体再生放大结构包括光学谐振腔、两块串联放置的增益晶体、两块凹面全反镜和普克尔盒；所述方法包括：确定双晶体再生放大结构中两块增益晶体在光学谐振腔内的位置，根据光学谐振腔物理腔长设定两块凹面全反镜的初始位置；建立增益晶体的热透镜效应模型，获取不同泵浦功率下增益晶体的热透镜焦距，对两块凹面全反镜的初始位置进代优化；对优化后的凹面全反镜位置进行验证，在设定的泵浦功率范围内，检测光学谐振腔的稳定性和输出激光的光束质量，若稳定性和光束质量满足预设要求，确定优化后的凹面全反镜位置为最终位置。

天眼查资料显示，杭州奥创光子技术有限公司，成立于2018年，位于杭州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本4255.52141万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州奥创光子技术有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目92次，财产线索方面有商标信息26条，专利信息159条，此外企业还拥有行政许可3个。

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