思坦科技申请微型发光器件及其制备方法专利，避免了传统刻蚀工艺中高能离子轰击、紫外辐照导致的发光层及半导体层侧壁晶格缺陷、表面态与杂质污染的问题

国家知识产权局信息显示，深圳市思坦科技有限公司申请一项名为“微型发光器件及其制备方法”的专利，公开号CN121924927A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本申请涉及一种微型发光器件及其制备方法，器件包括：驱动芯片；微型发光阵列，微型发光阵列键合于驱动芯片的一侧，微型发光阵列包括依次层叠设置的第一半导体层、发光层、多个台阶结构，其中，多个台阶结构设置于驱动芯片的一侧，每个台阶结构包括第二半导体层，第二半导体层设置于发光层背离第一半导体层的一侧，相邻两个台阶结构之间存在第一开口，第一开口形成的非发光区域将相邻两个台阶结构隔开。本申请方案，无需对发光层及第一半导体层进行刻蚀以形成像素隔离，仅通过对第二半导体层侧的结构进行刻蚀以完成像素划分，从而避免了传统刻蚀工艺中高能离子轰击、紫外辐照导致的发光层及半导体层侧壁晶格缺陷、表面态与杂质污染的问题。

天眼查资料显示，深圳市思坦科技有限公司，成立于2018年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2714.6716万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市思坦科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息110条，专利信息618条，此外企业还拥有行政许可26个。

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