全芯智造申请处理方法、电子设备、电子系统、存储介质以及光刻设备专利，能够显著地减少掩模版图数据中的细条的数目

国家知识产权局信息显示，全芯智造技术股份有限公司申请一项名为“处理方法、电子设备、电子系统、存储介质以及光刻设备”的专利，公开号CN121956412A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本公开的实施例涉及处理方法、电子设备、电子系统、存储介质以及光刻设备。该方法包括：确定掩模版图中的曲线图案的外围轮廓内的最大矩形；递归地确定在所述曲线图案的外围轮廓与所述最大矩形的边界之间的各个剩余区域内的相应的最大矩形；以及响应于满足递归终止条件，生成经处理的掩模版图，所述经处理的掩模版图中标记了所确定的各个最大矩形。本公开的实施例能够显著地减少掩模版图数据中的细条的数目，以有效地提升掩模制造的可靠性。

天眼查资料显示，全芯智造技术股份有限公司，成立于2019年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，全芯智造技术股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目64次，财产线索方面有商标信息222条，专利信息224条，此外企业还拥有行政许可5个。

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