微芸半导体取得刻蚀设备用匀流装置专利，确保晶圆各区域气体流量、浓度一致

国家知识产权局信息显示，合肥微芸半导体科技有限公司取得一项名为“一种刻蚀设备用匀流装置”的专利，授权公告号CN224356609U，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种刻蚀设备用匀流装置，本实用新型涉及刻蚀设备均流技术领域，包括：输送管路，一端用于与供应装置连通，另一端用于与均流腔室连通，以使所供应的气体流经输送管路进入均流腔室；均流组件，包括第一均流箱，第一均流箱设于输送管路，使输送管路内的气体流经第一均流箱后进入均流腔室，本实用新型的优点在于：通过供应装置持续将气体输送到输送管路，再流入均流组件进行均流，经均流组件对气体均流后，可有效避免管道内气体分布不均，确保晶圆各区域气体流量、浓度一致，反应速率稳定，从而提高刻蚀后的效果。

天眼查资料显示，合肥微芸半导体科技有限公司，成立于2021年，位于合肥市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本473.561858万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥微芸半导体科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息37条，此外企业还拥有行政许可3个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。