东微电子申请微波与射频复合等离子刻蚀系统专利，提升大尺寸晶圆上的刻蚀均匀性

国家知识产权局信息显示，河南东微电子材料有限公司申请一项名为“微波与射频复合等离子刻蚀系统和方法”的专利，公开号CN122202149A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本发明提供一种微波与射频复合等离子刻蚀系统和方法，属于半导体领域，该系统包括：反应腔体，内部设置有承载晶圆的偏置电极；微波固态源，用于产生微波信号；波导管，以传输微波信号；电磁线圈，在反应腔体外环绕波导管设置，用于在波导管内产生磁场，以使反应气体在波导管内发生电子回旋共振，产生第一等离子体；环形源电极，与波导管在反应腔体内的部分同轴设置，且平行于偏置电极，环形源电极环绕波导管设置；射频功率源，与环形源电极电性连接，用于向环形源电极提供射频信号，以在环形源电极与偏置电极之间产生电场，使反应气体产生第二等离子体，本发明可以提升大尺寸晶圆上的刻蚀均匀性。

天眼查资料显示，河南东微电子材料有限公司，成立于2018年，位于郑州市，是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本15700.93156万人民币。通过天眼查大数据分析，河南东微电子材料有限公司共对外投资了22家企业，参与招投标项目16次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息142条，此外企业还拥有行政许可8个。

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