同光半导体申请衬底刷头状态评估与清洗方法专利，从源头拦截污染源保障产品良率

国家知识产权局信息显示，河北同光半导体股份有限公司申请一项名为“衬底刷头状态评估与清洗方法、装置、设备及存储介质”的专利，公开号CN122270089A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明涉及微电子生产耗材维护技术领域，尤其涉及一种衬底刷头状态评估与清洗方法、装置、设备及存储介质，本发明方法首先获取多组测试衬底；然后采用待验证刷头对第一组测试衬底进行刷洗，并根据获得的第一刷洗差值与第一预设阈值确定刷头的第一状态；接着对待第二次刷洗状态的刷头进行清洗，采用清洗后的刷头刷洗第二组测试衬底，并根据获得的第二刷洗差值以及第二预设阈值区间确定刷头的第二状态；最后对待第三次刷洗状态的刷头进行再清洗，采用再清洗后的刷头刷洗第三组测试衬底，并根据获得的第三刷洗差值以及第三预设阈值确定刷头的第三状态。本发明既能避免过度维护又能防止维护不足，从源头拦截污染源，节约耗材的同时保障了产品良率。

天眼查资料显示，河北同光半导体股份有限公司，成立于2012年，位于保定市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本40814.5232万人民币。通过天眼查大数据分析，河北同光半导体股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目46次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可26个。

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