谱析光晶申请用于四足机器人多电机协同控制的氮化镓MOS结构专利，显著减少开关损耗并改善多电机驱动通道间的电流均流特性

国家知识产权局信息显示，杭州谱析光晶半导体科技有限公司申请一项名为“一种用于四足机器人中多电机协同控制的氮化镓MOS结构”的专利，公开号CN122294570A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明涉及MOS半导体技术领域，且公开了一种用于四足机器人中多电机协同控制的氮化镓MOS结构，包括衬底、氮化镓结构、中间介质以及MOS结构；所述氮化镓结构包括缓冲层、氮化镓层、氮化铝镓层、氮化镓栅极、氮化镓源极、氮化镓漏极以及P氮化镓层；所述MOS结构包括扩散层、MOS漏极、MOS栅极、MOS源极、介质层以及P阱层，所述氮化镓结构和MOS结构分别位于中间介质的前后两侧。本发明通过在衬底两侧集成氮化镓结构与MOS结构，并利用氮化镓源极与MOS源极、氮化镓漏极与MOS漏极分别与中间介质形成内置电感结构，该设计无需外置电感即可有效抑制高频电流突变与电压尖峰，显著减少开关损耗并改善多电机驱动通道间的电流均流特性。

天眼查资料显示，杭州谱析光晶半导体科技有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本909.1341万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州谱析光晶半导体科技有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息203条，此外企业还拥有行政许可2个。

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