霖鼎光学申请微光学元件表面缺陷检测方法专利，显著提高了缺陷识别的鲁棒性

国家知识产权局信息显示，霖鼎光学（上海）有限公司申请一项名为“一种微光学元件表面缺陷检测方法、存储介质及电子设备”的专利，公开号CN122312613A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明涉及光学缺陷检测领域，特别是涉及一种微光学元件表面缺陷检测方法、存储介质及电子设备。该方法先利用光学相干层析系统对元件表面进行快速扫描，获取可疑缺陷区域，再针对各可疑区域使用白光干涉仪同步获取空间对齐的深度图和强度图，分别通过两个编码器提取几何形貌特征向量和光学散射特征向量，将二者融合后输入检测网络输出缺陷的位置和类型。本发明采用粗检与精检结合的两阶段策略，兼顾全口径检测效率与微米级检测精度，通过几何特征与光学特征的互补融合显著提高了缺陷识别的鲁棒性，降低了漏检率和误检率。

天眼查资料显示，霖鼎光学（上海）有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本1770.8936万人民币。通过天眼查大数据分析，霖鼎光学（上海）有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息69条，此外企业还拥有行政许可21个。

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