谱析光晶申请用于机器人数字控制单元的氮化镓及MOS功率模块专利，有效吸收电压尖峰并抑制电磁干扰

国家知识产权局信息显示，杭州谱析光晶半导体科技有限公司申请一项名为“一种用于机器人数字控制单元的氮化镓及MOS功率模块”的专利，公开号CN122340893A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明涉及氮化镓技术领域，且公开了一种用于机器人数字控制单元的氮化镓及MOS功率模块，包括衬底层、前氮化镓结构和背氮化镓结构，所述前氮化镓结构和背氮化镓结构分别位于衬底层的两侧，所述前氮化镓结构和背氮化镓结构之间沉积有中间介质；所述前氮化镓结构包括前缓冲层、前氮化镓层、前氮化铝镓层、前源极、前栅极、前P型氮化镓层以及前漏极。本发明通过前增强型氮化镓结构实现常关操作以提升系统安全性，并利用背耗尽型结构提供高电流驱动能力，同时借助前电极、中间介质与背电极构成的集成电容结构有效吸收电压尖峰并抑制电磁干扰，从而使该功率模块在机器人数字控制单元中兼具高速开关、低损耗与高可靠性。

天眼查资料显示，杭州谱析光晶半导体科技有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本909.1341万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州谱析光晶半导体科技有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息204条，此外企业还拥有行政许可2个。

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