红太阳光电申请原子层沉积设备及电池片沉积工艺专利，有利于提高电池片的产能

国家知识产权局信息显示，湖南红太阳光电科技有限公司申请一项名为“一种原子层沉积设备及电池片沉积工艺”的专利，公开号CN122484714A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本发明公开了一种原子层沉积设备及电池片沉积工艺，包括反应炉体，以及设置在反应炉体内的载板、舟托、喷淋板、通源管道和保护气管道，反应炉体的尾端设有抽气口、通源进气口和保护气进气口；载板设置在反应炉体下部，载板上设有抽气孔，装载电池片的舟托放置在载板上；喷淋板设置在反应炉体上部，喷淋板与通源管道连通，通源管道与通源进气口连通，保护气管道环绕在喷淋板外周，并与保护气进气口连通；当电池片进行沉积工艺时，工艺气体经由通源进气口和通源管道进入喷淋板，再均匀喷淋至舟托内，并从抽气孔和抽气口排出反应炉体。本发明具有结构紧凑、工艺源利用率高且镀膜均匀性高等特点，有利于提高电池片的产能。

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