中电九天申请半导体制造过程多尺度异常模式识别方法专利，提升了异常检测率

国家知识产权局信息显示，中电九天智能科技有限公司申请一项名为“一种半导体制造过程的多尺度异常模式识别方法、系统、设备及介质”的专利，公开号CN122571409A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体制造技术领域，具体地说，涉及一种半导体制造过程的多尺度异常模式识别方法、系统、设备及介质；首先并行采集半导体制造过程中的设备信号级、工艺参数级和产线良率级三个尺度的数据；以晶圆批次、工艺站点和设备腔室为索引，将三个尺度的数据映射至统一批次工艺窗口，形成跨尺度变量集合；通过两级注意力机制进行特征融合，得到全局融合特征；然后计算异常得分，并自适应双边CUSUM阈值触发早期预警；在预警触发后，基于异常窗口内的高贡献跨尺度变量构建局部有向无环图，结合工艺流程时序约束进行因果推断；对候选根因变量进行do干预分析和反事实验证，输出根因变量、异常传播路径和处置建议；提升了异常检测率，降低了误报率。

天眼查资料显示，中电九天智能科技有限公司，成立于2016年，位于成都市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本6003.18593万人民币。通过天眼查大数据分析，中电九天智能科技有限公司参与招投标项目416次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息113条，此外企业还拥有行政许可16个。

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