纵慧芯光申请激光器结构及其制备方法专利，提升了器件良率

国家知识产权局信息显示，常州纵慧芯光半导体科技有限公司申请一项名为“一种激光器结构及其制备方法”的专利，公开号CN122659673A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本申请涉及一种激光器结构及其制备方法，包括：提供一衬底，于衬底上方依次形成半导体层及外延结构层；对外延结构层进行刻蚀，以形成至少一且至少包括顶部反射层的发光单元及环绕其的沟道；分别于半导体层、顶部反射层上表面形成第一、第二接触层；形成覆盖第一、第二接触层及发光单元显露表面的第一介质层，并于第一介质层中分别形成底部显露出第一、第二接触层的第一、第二沟槽；形成填充第一、第二沟槽并覆盖第一介质层上表面的第一、第二电极，第二、第一电极远离、靠近发光单元的一端在衬底上的正投影部分重叠，且投影重叠部分的第一、第二电极之间设有包括气体间隙或平坦化绝缘层的绝缘结构。本申请的激光器结构的制备方法提升了器件良率。

天眼查资料显示，常州纵慧芯光半导体科技有限公司，成立于2015年，位于常州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3167.2433万人民币。通过天眼查大数据分析，常州纵慧芯光半导体科技有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目123次，财产线索方面有商标信息31条，专利信息250条，此外企业还拥有行政许可30个。

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