苏州矽视科技申请复合电磁物镜、扫描电子束成像装置及成像方法专利,可在同一电子光学结构中兼容低着陆能量CDSEM表层成像和高着陆能量HVSEM底部/或浅表层下图案成像

市场资讯 2026-10-15 09:05:08
10秒看完全文要点
看要点

国家知识产权局信息显示,苏州矽视科技有限公司申请一项名为“一种复合电磁物镜、扫描电子束成像装置及成像方法”的专利,公开号CN122907560A,申请日期为2026年7月。

专利摘要显示,本发明属于扫描电子束成像系统技术领域,特别涉及一种复合电磁物镜、扫描电子束成像装置及成像方法,包括第一磁透镜、第二磁透镜和悬浮极靴;第一磁透镜与第二磁透镜有共用极靴,第一磁透镜与悬浮极靴在靠近样品一侧形成径向缝隙;第二磁透镜与悬浮极靴之间形成沿光轴方向的轴向缝隙;悬浮极靴设置在共用极靴的末端,并且与共用极靴之间高压电气绝缘;悬浮极靴被配置为能够被施加独立偏压以形成静电透镜。本发明在同一电子光学结构中兼容低着陆能量CDSEM表层成像和高着陆能量HVSEM底部/或浅表层下图案成像,并对SE、BSE的返回轨迹和探测器分配比例进行控制,使不同类型或不同来源的信号电子能够被分层采集。

天眼查资料显示,苏州矽视科技有限公司,成立于2021年,位于苏州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本516.3407万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州矽视科技有限公司参与招投标项目6次,财产线索方面有商标信息9条,专利信息39条,此外企业还拥有行政许可8个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

财经频道更多独家策划、专家专栏,免费查阅>>

金融界提醒:本文内容、数据与工具不构成任何投资建议,仅供参考,不具备任何指导作用。股市有风险,投资需谨慎!
全部评论
谈谈您的想法...
AI解读分析
打开App
推荐 要闻 7x24 理财 财 经 导航