台积电：7nm EUV芯片首次流片成功 5nm明年试产

金融界网站 2018-10-10 11:36:36

台积电宣布了有关极紫外光刻（EUV）技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。